技術編號：7063692
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及硅基光學脈沖調制器件及應用。將單晶硅加工成硅片，用離子注入的方法注入32S或者同時注入32S與11B，雙面拋光，表面鍍以對1.3-1.6μm高透的介質膜或不鍍膜。硅基光學脈沖調制器件用于激光器中，泵浦光經過激光增益介質后再通過硅基光學脈沖元件，置于激光增益介質前面的前腔鏡作為輸入鏡與置于硅基光學脈沖元件后面的后腔鏡形成諧振腔；可用于對1.3-1.6μm的激光進行損耗的調節(jié)。本發(fā)明的脈沖調制器件制作簡單、成本低，有利于產品小型化，有利于產業(yè)化生產。...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。