技術(shù)編號(hào):7056488
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開(kāi)了,包括以下步驟①在Al2O3基片上濺射沉積NiCr薄膜;②光刻,形成所需要的圖形;③將步驟②所得的Al2O3基片通過(guò)專(zhuān)用夾具放入離子束刻蝕機(jī)中,用Ar氣進(jìn)行離子束刻蝕;將步驟③所得的Al2O3基片進(jìn)行濕法去膠,去除殘余光刻膠。本發(fā)明解決了NiCr薄膜難以采用光刻膠作為掩膜進(jìn)行4μm NiCr薄膜干法圖形化的問(wèn)題,且工藝簡(jiǎn)單,容易操作,重復(fù)性好,適合用于大規(guī)模生產(chǎn)。專(zhuān)利說(shuō)明一種用于4um NiCr合金薄膜的離子束干法刻蝕方法 [0001] ...
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