技術(shù)編號：7049214
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。背景技術(shù)包含波導(dǎo)以增加入射到光電轉(zhuǎn)換部(unit)上的光的量的固態(tài)圖像拾取設(shè)備最近已被報導(dǎo)。日本專利公開No. 2010-103458公開了為了形成波導(dǎo)而在絕緣膜中的開口中嵌入高折射率膜的方法。具體地，該方法包括在初期階段中，在濺射效果高的條件下形成膜；然后，在沉積效果高的條件下形成膜。日本專利公開No. 2005-251804公開了有效地向光電轉(zhuǎn)換部引導(dǎo)光的波導(dǎo)的側(cè)壁的傾斜。但是，本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，絕緣膜的開口在日本專利公開No. 2010...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。