技術(shù)編號(hào):7044098
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。諸如對(duì)非晶硅進(jìn)行退火,以形成多晶硅的處理使用曝光至由激光二極管或激光二極管陣列提供的脈沖激光束?;趤碜韵鄳?yīng)的激光二極管的多個(gè)束的光束被成形且被引導(dǎo)到襯底。所述激光二極管的占空比被選擇成小于約0.2,使得°s可以大于連續(xù)波運(yùn)行中可用的。剛性襯底或柔性襯底上的非晶硅層被處理,以產(chǎn)生具有至少50cm2/Vs的遷移率的多晶硅層。專利說明脈沖線束 [0001]本公開內(nèi)容涉及基于激光二極管的材料處理系統(tǒng)。 背景技術(shù) [0002]各種類型的硅襯底被用在包含太...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
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