技術(shù)編號：7043201
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。一種，包括在若干襯底表面形成底部抗反射薄膜和圖形化層，所述圖形化層暴露出部分底部抗反射薄膜表面；以所述圖形化層為掩膜，刻蝕若干襯底表面的底部抗反射薄膜，直至暴露出襯底表面為止，形成底部抗反射層；測試底部抗反射層以獲得第一尺寸；所述第一尺寸通過不同的實驗條件獲得，通過量測整片晶圓各個區(qū)域的第一尺寸以得到最優(yōu)方案；最優(yōu)襯底被繼續(xù)刻蝕以在襯底內(nèi)形成開口；在形成開口之后，測試所述開口以獲得第二尺寸；其余的襯底被重工，去除所述圖形化層和底部抗反射層之后，再次形成圖形...
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