技術(shù)編號(hào)：7037986
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。提供一種能夠提高溝槽的上部邊緣中的柵極絕緣膜的耐壓的半導(dǎo)體裝置以及其制造方法。半導(dǎo)體裝置(1)包含形成有柵極溝槽(9)的n型SiC基板(2)；一體地包含側(cè)面絕緣膜(18)和底面絕緣膜(19)的柵極絕緣膜(16)；以及被埋入到柵極溝槽(9)的柵極電極(15)，該柵極電極(15)選擇性地具有在上部邊緣(26)中重疊于SiC基板(2)的表面(21)的重疊部(17)，在該半導(dǎo)體裝置(1)中，在側(cè)面絕緣膜(18)以在上部邊緣(26)中向柵極溝槽(9)的內(nèi)部突出的方式...
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