技術(shù)編號：7025988
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種加熱半導體的裝置。背景技術(shù)在半導體制造中使用于干法工藝和等離子體涂層等的半導體制造裝置中，作為蝕刻用和清洗用，使用的是反應(yīng)性高的F、Cl等的鹵素系等離子體。因此，安裝于這種半導體制造裝置的構(gòu)件要求有高耐腐蝕性，一般使用實施過氧化鋁膜處理的鋁或哈司特鎳合金等的高耐腐蝕金屬或陶瓷構(gòu)件。特別是支撐固定Si晶片的靜電卡盤材料和加熱器材料，由于必須有高耐腐蝕和低發(fā)塵性，使用的是氮化鋁、氧化鋁、藍寶石等的高耐腐蝕陶瓷構(gòu)件。由于這些材料會隨著長時間使用而逐...
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