技術(shù)編號：7015493
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了，用以簡化陣列基板的制作工藝流程。所述陣列基板的制作方法包括在襯底基板上制作薄膜晶體管的柵極、有源層、源極和漏極以及第一絕緣層的過程，制作第一絕緣層上的一個或多個接觸孔的過程，以及制作柵線和/或數(shù)據(jù)線的過程；所述第一絕緣層位于所述柵極與所述有源層之間，且覆蓋所述柵線和數(shù)據(jù)線；其中，所述柵極與所述接觸孔采用同一次掩膜、同一次曝光工藝形成；或者所述有源層與與所述接觸孔采用同一次掩膜、同一次曝光工藝形成。專利說明[0001]本發(fā)明涉及顯示，尤其涉及。...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。