技術(shù)編號(hào):7015099
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了,該包括如下步驟在硅片正面形成絨面;在所述硅片背面進(jìn)行B離子注入;對(duì)所述硅片進(jìn)行擴(kuò)散退火;去除磷硅玻璃;在所述硅片正面形成減反膜;在所述硅片背面形成背電極和鋁背場(chǎng);在所述硅片正面形成正電極。采用本發(fā)明的方法,可以通過一次高溫過程在硅片的背面形成高效硼摻雜p+層,簡(jiǎn)化了工藝復(fù)雜度,提高了太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。專利說明[0001]本發(fā)明涉及太陽能電池,具體地說涉及。背景技術(shù)[0002]為了進(jìn)一步提高硅太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率,通常會(huì)在硅片的背面...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。