技術編號：7012662
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種電子束裝置，諸如在繪制半導體(LSI)制造工藝中線路圖案的平版印刷領域中所使用的電子束繪圖技術中的電子透鏡、多光柱式電子束繪圖裝置或者電子束檢查裝置。背景技術迄今為止，半導體平版印刷技術通過基于光的照相制版已對微型化、高集成度和成本降低作出貢獻。基于隨著光的波長變短分辨率得到提高的原理，光波長隨著微型化的進程而變得越來越短，并且從g線(436nm的波長)變?yōu)閕線(365nm的波長)，并且目前，使用具有193nm波長的準分子激光。已經(jīng)繼續(xù)更積極...
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