技術編號：7009709
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明公開了一種基于PSS襯底外延片的處理方法，包括以下步驟S1、將包含有PSS襯底的外延片在真空烤盤爐內進行烘烤，去除外延片表面的水氧與有機雜質；S2、通入氫氣和氮氣的混合氣體進行烘烤，分解PSS襯底表面的GaN層；S3、烘烤結束后，使用濃硫酸和雙氧水混合液清洗PSS襯底表面殘留的顆粒。本發(fā)明解決了PSS襯底無法完整回收、再重新使用的問題，使用本發(fā)明可以完整地、不損失圖形地還原PSS襯底，使該襯底重新投入外延使用，從而降低了生產成本，具備非常巨大的商業(yè)價...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。