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用于形成硅通孔的方法技術資料下載

技術編號:7003056

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本發(fā)明涉及半導體制造エ藝,特別涉及。背景技術隨著半導體集成電路制造技術的發(fā)展,芯片中所含器件的數量不斷増加,器件的尺寸也因集成度的提升而不斷地縮小,生產線上使用的線路寬度已進入了亞微米的范圍。集成電路技術發(fā)展的驅動カ來源于對更高性能、更多功能、更小尺寸、更低功耗和成本的需求,經濟的新型小尺寸3D娃通孔(TSV, Through -Silicon-Via)封裝技術也由此應運而生。3D硅通孔技術是通過在芯片和芯片之間、晶圓和晶圓之間制作垂直導通,實現芯 片之間...
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