技術(shù)編號：7003003
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于半導(dǎo)體處理，具體涉及一種用于半導(dǎo)體處理設(shè)備的熱反射裝置以及應(yīng)用該熱反射裝置的半導(dǎo)體處理設(shè)備。背景技術(shù)目前隨著技術(shù)的發(fā)展，化學(xué)氣相生長(Chemical Vapor Deposition,簡稱為CVD)技術(shù)已經(jīng)得到越來越多的應(yīng)用。特別是其中的金屬有機化學(xué)氣相生長(Metal OrganicChemical Vapor Deposition，簡稱為M0CVD)技術(shù)，因其具有鍍膜成分易控、鍍膜均勻致密以及附著力好等優(yōu)點而逐漸成為工業(yè)界主要的鍍膜技術(shù)。所...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。