技術(shù)編號：6999717
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件的制造領(lǐng)域，尤其涉及。背景技術(shù)根據(jù)摩爾定律，芯片的集成度每18個(gè)月至2年提高一倍，S卩加工線寬縮小一半。利用尺寸不斷減小的硅基半導(dǎo)體材料(硅材料的加工極限一般認(rèn)為是10納米線寬)來延長摩爾定律的發(fā)展道路已逐漸接近終點(diǎn)。隨著微電子領(lǐng)域器件尺寸的不斷減小，硅材料逐漸接近其加工的極限。為延長摩爾定律的壽命，國際半導(dǎo)體工業(yè)界紛紛提出超越硅技術(shù)(Beyond Silicon)，其中最有希望的石墨烯應(yīng)運(yùn)而生。石墨烯(Graphene)作為一種新型的...
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