技術編號：6998086
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用于處理襯底以去除氧化物的干式非等離子體處理系統(tǒng)和方法，更具體而言，涉及用于對襯底進行化學和熱處理的干式非等離子體處理系統(tǒng)和方法。背景技術在材料處理的方法工程中，圖案蝕刻包括將薄層的諸如光刻膠的感光材料涂到襯底的上表面，隨后該上表面被圖案化以提供用于在蝕刻過程中將此圖案轉(zhuǎn)移到下覆的薄膜的掩膜。感光材料的圖案化一般涉及使用例如微光刻技術通過光柵(以及相關光學器件) 由輻射源對感光材料進行曝光，之后使用顯影劑去除感光材料的被輻射的區(qū)域(如在正光刻膠的...
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