技術(shù)編號：6995509
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。 背景技術(shù)半導(dǎo)體器件集成度的快速提高已推動電子業(yè)向前發(fā)展。半導(dǎo)體器件的集成度，即， 在半導(dǎo)體襯底的給定平坦區(qū)域中可以形成的半導(dǎo)體器件的密度，在確定產(chǎn)品價(jià)格時(shí)充當(dāng)重要因素。也就是說，更高的集成度可以使半導(dǎo)體存儲器器件的產(chǎn)品價(jià)格降低。因此，對半導(dǎo)體存儲器件的更高集成度的需求正持續(xù)增長。半導(dǎo)體器件的集成度主要由特征尺寸決定，S卩，主要由可以使用已知制造技術(shù)而獲得的圖案的精細(xì)度來決定。特征尺寸直接影響半導(dǎo)體襯底中被諸如單位存儲器單元的電子器件所占據(jù)的平...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。