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用于半導(dǎo)體的各向異性蝕刻的工藝的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6991177

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本公開(kāi)廣泛地涉及ー種用于半導(dǎo)體的各向異性蝕刻的エ藝。 背景技術(shù)光電子學(xué)的迅速發(fā)展產(chǎn)生了對(duì)在半導(dǎo)體表面上制備納米級(jí)圖案的方法的需求。通常,通過(guò)多種技術(shù)將這些圖案蝕刻到半導(dǎo)體基材中。例如,已使用濕化學(xué)蝕刻來(lái)蝕刻各種半導(dǎo)體。通常,對(duì)于II-VI族半導(dǎo)體如的情況,濕化學(xué)蝕刻使用溴基化學(xué)品。濕化學(xué)蝕刻通過(guò)對(duì)半導(dǎo)體組分的氧化及隨后把氧化物在合適溶劑中的化學(xué)溶解來(lái)進(jìn)行。濕化學(xué)蝕刻可以是各向同性的,并且該エ藝的均勻度低。光電子學(xué)行業(yè)中的生產(chǎn)エ業(yè)需要與使用濕蝕刻可以實(shí)現(xiàn)的相...
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