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用于除氣室的石英窗的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6991035

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用于除氣室的石英窗背景技術(shù)半導(dǎo)體基底在等離子體處理過(guò)程中,若半導(dǎo)體基底暴露于含有鹵素的處理氣體中,殘留的處理氣體會(huì)留在半導(dǎo)體基底表面。這樣的殘留物會(huì)導(dǎo)致半導(dǎo)體基底在后續(xù)操作步驟中出現(xiàn)瑕疵,并且會(huì)污染流水線上其他半導(dǎo)體基底。因此,在除氣室(degas chamber) 中從半導(dǎo)體基底去除該等殘留物,是期望的。發(fā)明內(nèi)容此處描述的有五條邊的石英窗設(shè)置成能安裝到除氣室;該石英窗含有厚度均勻的石英板且具有底表面、上表面和在該底表面和該上表面之間延伸的側(cè)壁,其中該側(cè)壁...
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