技術(shù)編號：6989071
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。用于等離子體處理工具原位工藝監(jiān)控和控制的方法和裝置背景技術(shù)在競爭性市場中，半導體器件制造商需要將廢棄物減到最少并堅持生產(chǎn)高質(zhì)量的半導體器件以保持競爭優(yōu)勢。因此，處理環(huán)境的嚴格控制有利于達到襯底處理過程中的最佳效果。所以，制造企業(yè)已花費時間和資源來找出改善襯底處理的方法和/或裝置。為了提供對處理環(huán)境的嚴格控制，會需要處理環(huán)境的特征描述。為了提供表征處理室的處理環(huán)境所需的數(shù)據(jù)，可以使用傳感器來獲取方案(recipe)執(zhí)行期間的處理數(shù)據(jù)。 可以分析所述數(shù)據(jù)并相應(yīng)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。