技術(shù)編號：6989032
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。背景技術(shù)等離子體處理的進(jìn)步已經(jīng)促進(jìn)了半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展。為了具備競爭力，制造公司需要能將襯底加工成優(yōu)質(zhì)的半導(dǎo)體器件。在襯底加工期間，一般需要嚴(yán)格控制工藝參數(shù)來實(shí)現(xiàn)令人滿意的結(jié)果。當(dāng)處理參數(shù)(例如，RF功率、壓強(qiáng)、偏壓、離子通量、等離子體密度、 以及諸如此類)落在預(yù)定義窗口的范圍之外，就可能產(chǎn)生不符合需要的處理結(jié)果(例如，劣等的刻蝕輪廓、低的選擇比、對襯底的損壞、對處理腔室的破壞、以及諸如此類)。因此，識別當(dāng)處理參數(shù)落入預(yù)定義窗口范圍之外時的狀況的能力在半導(dǎo)體...
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