技術(shù)編號:6988343
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。用于氣相沉積的淋噴頭發(fā)明背景發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明的實施方案大體上涉及用于氣相沉積的裝置和方法,并且更具體地涉及化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、反應(yīng)器及其工藝。相關(guān)技術(shù)的描述光電器件或太陽能器件、半導(dǎo)體器件或其他電子器件通常通過利用多種制造工藝來處理襯底的表面而被制造。這些制造工藝可以包括沉積、退火、蝕刻、摻雜、氧化、氮化和許多其他工藝。外延層剝離技術(shù)(ELO)是較不普遍的用于制造薄膜器件和材料的技術(shù),其中材料層被沉積至生長襯底上,然后被從生長襯底除去。外延層、膜或材料通過化學(xué)...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。