技術(shù)編號：6970499
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及抗蝕圖形膨脹用材料，形成顯微圖形的方法，制造小型化器件的方法以及制造半導(dǎo)體器件的方法，更具體地說，本發(fā)明涉及使抗蝕材料上的圖形膨脹的技術(shù)，該技術(shù)包括在抗蝕圖形的表面上形成一層薄膜，并經(jīng)過度曝光，然后通過抗蝕圖形與相關(guān)薄膜間反應(yīng)而使抗蝕圖形膨脹。由于主要要保持高的生產(chǎn)率，即使在目前圖形尺寸更傾向顯微化，仍需要采用供耐蝕材料曝光的光源。因此，不僅需要繼續(xù)研究作為曝光光源的、具有較短波長的真空紫外光，而且還繼續(xù)研究掩膜圖形本身和光源形狀等。如上所述，對...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。