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互連結(jié)構(gòu)的制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6960511

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體,更為具體的,本發(fā)明涉及。 背景技術(shù)隨著對(duì)超大規(guī)模集成電路高集成度和高性能的需求逐漸增加,半導(dǎo)體技術(shù)向著 65nm甚至更小特征尺寸的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展,而芯片的運(yùn)算速度明顯受到金屬導(dǎo)電所造成的電阻電容延遲的影響。為了改善集成電路的性能,利用具有低電阻率、優(yōu)良抗電遷移能力等優(yōu)點(diǎn)的銅代替鋁作為半導(dǎo)體內(nèi)的金屬互連線可降低金屬互連線電阻。另一方面,利用低介電常數(shù)介電層或是超低介電常數(shù)介電層作為金屬層間介電層,可以有效降低電容。銅雙鑲嵌技術(shù)搭配低介電常數(shù)材...
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