技術(shù)編號(hào)：6957168
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻設(shè)備和用于清洗光刻設(shè)備的方法。 背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種將想要的圖案施加到襯底上、通常施加到襯底的目標(biāo)部分上的機(jī) 器。光刻設(shè)備可用于例如集成電路(IC)的制造。在那種情況下，可利用另外被稱(chēng)為掩?；?掩模原版的圖案形成裝置生成將在IC的單個(gè)層上形成的電路圖案。該圖案可被轉(zhuǎn)移到襯 底(例如硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括管芯的一部分、一個(gè)或幾個(gè)管芯)上。圖案的 轉(zhuǎn)移通常借助于在提供在襯底上的輻射敏感材料(光刻膠)層上的成像。一般地，單個(gè)襯 底將包含被...
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