技術(shù)編號：6955474
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及在基板上形成抗蝕劑圖案的基板的處理方法、程序和計算機存儲介 質(zhì)。背景技術(shù)在例如半導(dǎo)體器件的制造工藝中的光刻工序中，例如依次進行在晶片表面的被處 理膜上涂敷抗蝕劑液來形成抗蝕劑膜的涂敷處理、對晶片上的抗蝕劑膜照射規(guī)定圖案的光 來使抗蝕劑膜曝光的曝光處理、對已曝光的抗蝕劑膜進行顯影的顯影處理等，從而在晶片 上形成規(guī)定的抗蝕劑圖案。然后，在該抗蝕劑圖案的形成處理后，以該抗蝕劑圖案作為掩 膜，被處理膜被蝕刻，在該被處理膜形成規(guī)定的圖案。在形成上述抗蝕劑圖...
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