技術(shù)編號：6950503
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)，特別涉及一種。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域，為了保證同一批產(chǎn)品在性能上具有一致性，要求同一批產(chǎn)品中產(chǎn)品之間的刻蝕后檢查關(guān)鍵尺寸(ΑΕΙ CD)差異必須被控制在一定范圍內(nèi)，換句話說，如果同一批產(chǎn)品中每件產(chǎn)品的AEI⑶都能夠被精確地控制，則產(chǎn)品之間的AEI⑶差異也是比較小的。在現(xiàn)有技術(shù)中，為了能夠精確地控制產(chǎn)品的AEI⑶，光刻膠(PR)修剪(trim)工藝已經(jīng)被廣泛地應(yīng)用，光刻膠修剪工藝的原理是采用刻蝕氣體對光刻圖案進行干法刻蝕，從而進...
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