技術(shù)編號：6948468
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及對適用于基板處理裝置的處理室內(nèi)的構(gòu)成部件的表面進行處理的表 面處理方法。背景技術(shù)作為基板處理裝置，公知有使用等離子體對基板進行處理的等離子體處理裝置。 等離子體處理裝置具備能夠減壓的處理室(腔室)，該處理室在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體并收容 作為被處理基板的晶片，在腔室內(nèi)配置有載置晶片的載置臺(基座)；按照與基座相對的 方式配置在其上方的、向腔室內(nèi)導(dǎo)入處理氣體的噴淋頭(上部電極板)；和配置在基座的外 周邊部的、包圍被處理基板的聚焦環(huán)(F/R)等各種部件(以...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。