技術(shù)編號(hào)：6942171
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，特別涉及半導(dǎo)體工藝控制。 背景技術(shù)隨著生產(chǎn)效率和產(chǎn)能的需求日增，半導(dǎo)體工藝控制也愈顯重要。然而，隨著元件的 圖案尺寸的減少，例如由65nm減少至45nm(或以下)，將工藝變化維持在可接受的范圍就顯 得十分困難。舉例而言，工藝可能面對(duì)的困難有生產(chǎn)工具的生產(chǎn)率下降、技術(shù)員彼此間影 口向的增力口(increased operatorinteraction)、良率下降，以及重工率(rework rates) ±曾 加，上述困難都可能造成成本增...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。