技術(shù)編號：6941925
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及在光刻工藝中使用的多色調(diào)光掩模的評價方法。 背景技術(shù)以往，在液晶顯示裝置等電子設(shè)備的制造中，利用光刻工藝，對形成在要被蝕刻的被加工層上的抗蝕劑膜，使用具有預(yù)定圖案的光掩模在預(yù)定的曝光條件下進行曝光來轉(zhuǎn)印 圖案，并對該抗蝕劑膜進行顯影，由此形成抗蝕劑圖案。然后，將該抗蝕劑圖案作為掩模對 被加工層進行蝕刻。在光掩模中存在如下的多色調(diào)光掩模，該多色調(diào)光掩模具有遮蔽曝光光的遮光區(qū) 域、透射過曝光光的透光區(qū)域以及透射過曝光光一部分的半透光區(qū)域。在使用這種包...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。