技術(shù)編號：6937440
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種微影工藝(Photolithography)，且特別是有關(guān)于一種應(yīng)用于罩幕式只讀存儲器編碼布植(Code Implantation)的微影工藝。通常罩幕式只讀存儲器的編碼布植工藝，首先利用一光罩將形成于基底上的光阻層圖案化，而暴露欲編碼的通道區(qū)。接著，再以此圖案化的光阻層為罩幕進(jìn)行一離子植入工藝，以將離子植入于預(yù)定編碼的通道域中。然而，罩幕式只讀存儲器的編碼布植工藝中用來作為編碼罩幕的光罩，通常會因電路設(shè)計的需求而在同一光罩上形成單一(I...
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