技術(shù)編號(hào)：6934271
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造工藝中的鄰接接觸體(butting contact)的制法，特 別是指一種制作鄰接接觸體的半導(dǎo)體制造工藝與具有鄰接接觸體的半導(dǎo)體裝置。背景技術(shù)半導(dǎo)體裝置中，若兩個(gè)相鄰場(chǎng)效晶體管的源/漏極彼此需要連接，且兩者都需要 連接至第一層內(nèi)聯(lián)機(jī)層(interconnection)時(shí)，兩晶體管可使用同一個(gè)接觸體(contact) 來與第一層內(nèi)聯(lián)機(jī)層連接；如此可以節(jié)省電路面積。此種結(jié)構(gòu)稱為鄰接接觸體(butting contact);以N型金氧半場(chǎng)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。