技術(shù)編號(hào)：6934149
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及對(duì)液晶顯示裝置(LCD)等的平板顯示器(FPD)制造 用的基板等的被處理體實(shí)施等離子體處理的感應(yīng)耦合等離子體處理裝 置。背景技術(shù)在液晶顯示裝置(LCD)等的制造工序中，為了對(duì)玻璃基板實(shí)施 規(guī)定的處理，使用等離子體蝕刻裝置或等離子體CVD成膜裝置等各種 等離子體處理裝置。作為這種等離子體處理裝置，以前大多使用電容 耦合等離子體處理裝置，但是，最近具有能夠得到高真空度、高密度 的等離子體這種大優(yōu)點(diǎn)的感應(yīng)耦合等離子體(Inductively Coupl...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。