技術(shù)編號(hào):6933107
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置,特別是涉及高耐壓功率用半導(dǎo)體裝置。 背景技術(shù)圖49是整體用700標(biāo)示、傳統(tǒng)的橫向n溝道IGBT(絕緣柵雙極 型晶體管)的頂視圖;此外,圖50是從X-X方向看圖49的截面圖。如圖50所示,IGBT 700包含p型襯底l。 n層2設(shè)置在p型村 底l中,此外在n—層2內(nèi)形成n型緩沖層3。此外,在n型緩沖層3 中形成p型集電極層4。另一方面,在n-層2中,與p型集電極層4相隔規(guī)定的距離,形 成p型基極層5。在p型基極層5內(nèi),n型發(fā)射極層(n+...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。