技術編號：6928906
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種半導體工藝，尤其涉及一種。背景技術在集成電路蓬勃發(fā)展的今天，元件縮小化與集成化是必然的趨勢，也是各界積極 發(fā)展的重要課題。當元件尺寸逐漸縮小，集成度(Integration)逐漸提高，元件間的隔離結 構也必須縮小，因此元件隔離技術困難度也逐漸增高。元件隔離有利于區(qū)域氧化法(Local Oxidation, LOCOS)來形成的場氧化層(FieldOxide)，由于場氧化層受限于其外形的鳥嘴 (Birds Beak)特征，要縮小其尺寸實有困難。...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。