技術(shù)編號：6927352
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及， 特別是涉及對基板進行等離子體處理的基板處理裝置的電極單元。背景技術(shù)對半導(dǎo)體晶片進行等離子體處理的基板處理裝置，包括收容半導(dǎo) 體晶片的腔室、配置在該腔室內(nèi)且載置半導(dǎo)體晶片的載置臺、以及配 置成與該載置臺相對且向腔室內(nèi)供給處理氣體的噴淋頭。載置臺與高 頻電力源連接并用作下部電極，噴淋頭具有圓板狀的電極層并用作上 部電極。在基板處理裝置中，在載置臺以及噴淋頭的電極層之間施加 高頻電壓，腔室內(nèi)的處理氣體被激發(fā)而產(chǎn)生等離子體。由于電極層的溫度對等離子體...
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