技術(shù)編號(hào)：6922563
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于等離子工藝的硅片卡盤裝置，更具體地涉及在等 離子工藝過程中改善在每個(gè)硅片邊緣區(qū)域出現(xiàn)的等離子刻蝕圖形的均 勻性的、用于等離子工藝的硅片卡盤裝置。背景技術(shù)通常，為了預(yù)期的目的，采用等離子對(duì)襯底(或硅片)的表面進(jìn)行處理。例如，為了采用藍(lán)寶石硅片來制造發(fā)光二極管(LED)以增 加光的亮度，將藍(lán)寶石硅片的表面刻蝕成具有半球形透鏡形狀的浮雕 圖形，從而增加發(fā)出的光的亮度。這樣，為了在硅片表面上形成浮雕 圖形，在硅片上覆蓋光刻膠，使用掩膜對(duì)硅片進(jìn)行顯影，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。