技術(shù)編號(hào)：6922244
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)的制造工藝和通過該制造工藝 改進(jìn)的器件結(jié)構(gòu)。具體而言，本發(fā)明涉及制備帶有強(qiáng)保護(hù)層的MEMS器件的制造工 藝，該保護(hù)層能抵抗?fàn)奚鼘俞尫胚^程中刻蝕劑對(duì)MEMS器件的腐蝕。本發(fā)明尤其適 用于傳動(dòng)器、傳感器和微鏡等電極暴露在外的器件。背景技術(shù)盡管近年來在生產(chǎn)和裝配機(jī)電傳動(dòng)器、傳感器和用作空間光調(diào)制器的微鏡器 件方面取得了顯著的進(jìn)展，但是在制備工藝方面還有技術(shù)局限和困難。因?yàn)楹茈y 避免去除犧牲層時(shí)對(duì)其它結(jié)構(gòu)造成損傷，因而在...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。