技術(shù)編號：6922217
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件(如集成電路、存儲單元等)制造中，執(zhí)行一系列制造工序來在半導(dǎo)體晶片("晶片")上形成特征。這些晶 片包括形成在硅基片上的多層結(jié)構(gòu)形式的集成電路器件。在基片 層，形成具有擴散區(qū)域的晶體管器件。在后面的層中，將互連金屬 化線圖案化并電氣連接到晶體管器件以形成所需的集成電路器件。 并且，圖案化的導(dǎo)電層通過電介質(zhì)材料與別的導(dǎo)電層絕緣。為了建立集成電if各，首先在晶片表面上創(chuàng)建晶體管。然 后通過一系列制造工藝步驟將導(dǎo)線和絕緣結(jié)構(gòu)增加為多薄膜層。通...
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