技術(shù)編號(hào):6922018
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及向處理腔室內(nèi)供給規(guī)定的處理氣體并使其等離子體 化,利用已等離子體化的處理氣體,處理配置在處理腔室內(nèi)的基板的 等離子體處理裝置。背景技術(shù)上述等離子體處理裝置構(gòu)成為,至少包括具有閉塞空間,在內(nèi)部收納基板的處理腔室;向處理腔室內(nèi)供給處理氣體的處理氣體供給機(jī)構(gòu);對(duì)上述處理腔室內(nèi)進(jìn)行減壓的排氣機(jī)構(gòu);施加高頻電力的高頻電源;和被高頻電源施加高頻電力,從而使供給至上述處理腔室內(nèi)的 處理氣體等離子體化的等離子體生成機(jī)構(gòu)等。作為使用這樣的等離子體處理裝置的基板處理...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。