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等離子體處理裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6922018

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本發(fā)明涉及向處理腔室內(nèi)供給規(guī)定的處理氣體并使其等離子體 化,利用已等離子體化的處理氣體,處理配置在處理腔室內(nèi)的基板的 等離子體處理裝置。背景技術(shù)上述等離子體處理裝置構(gòu)成為,至少包括具有閉塞空間,在內(nèi)部收納基板的處理腔室;向處理腔室內(nèi)供給處理氣體的處理氣體供給機(jī)構(gòu);對(duì)上述處理腔室內(nèi)進(jìn)行減壓的排氣機(jī)構(gòu);施加高頻電力的高頻電源;和被高頻電源施加高頻電力,從而使供給至上述處理腔室內(nèi)的 處理氣體等離子體化的等離子體生成機(jī)構(gòu)等。作為使用這樣的等離子體處理裝置的基板處理...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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