技術(shù)編號：6912132
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種用于半導(dǎo)體工藝中的干法腐蝕設(shè)備，尤其涉及一種等離子體刻蝕機(jī)。背景技術(shù)等離子體刻蝕機(jī)用于半導(dǎo)體工藝中的干法腐蝕設(shè)備。該設(shè)備可用于半導(dǎo)體工藝中多晶 硅、氮化硅的刻蝕和去膠，特別適合于目前太陽能電池片生產(chǎn)中的電池周邊摻雜硅的刻蝕， 所以等離子體刻蝕機(jī)在硅太陽能電池生產(chǎn)線上應(yīng)用最多。其工作原理是把工件置于真空腔 體中，通入反應(yīng)氣體，使其受高頻激勵而產(chǎn)生輝光放電，從而獲得化學(xué)活性微粒，該化學(xué) 活性微粒與被刻蝕材料起化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)，由抽氣裝置...
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