技術(shù)編號(hào)：6905165
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是，用于光學(xué)曝光加 工等微細(xì)加工領(lǐng)域。 背景技術(shù)隨著微納光機(jī)電系統(tǒng)的不斷發(fā)展，微小器件的快速精密加工制造已經(jīng)成 為其中的關(guān)鍵技術(shù)。利用光學(xué)曝光光敏膠的方法，不但是大規(guī)模集成電路生 產(chǎn)中的主要技術(shù)，也是微光機(jī)電系統(tǒng)技術(shù)的主要加工手段，可以制作大面積 和批量的微納器件，而備受人們關(guān)注。超大規(guī)模集成電路技術(shù)追求的是光學(xué)曝光的極限分辨率，而微系統(tǒng)或MEMS技術(shù)追求的是光學(xué)曝光的另一個(gè)極端， 即超厚膠曝光。近年來，微細(xì)在這些方面取得了巨大的飛躍，利用 "波前工...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。