技術(shù)編號(hào)：6901080
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及通過(guò)靶的激光燒蝕在襯底上形成薄膜的方法，例如，已知的脈沖激光沉積(“PLD”)技術(shù)。本發(fā)明特別適于金剛石膜的形成，但并不限于此，而是可以應(yīng)用于任何材料的膜的形成中，例如可用于超導(dǎo)膜生長(zhǎng)工藝中、光電子和半導(dǎo)體電子中。背景技術(shù) 在高質(zhì)量薄膜的生成中采用PLD的各種技術(shù)已經(jīng)研究了多年。PLD包括將脈沖激光引導(dǎo)到放在室中的靶材料上，該室通常是真空室。激光的能量使靶表面的材料燒蝕并蒸發(fā)成為煙柱。煙柱包括原子、離子、分子和微粒或原子團(tuán)的混合物。隨著材料被燒蝕...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。