技術編號：6895168
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及渦輪分子泵、基板處理裝置以及渦輪分子泵的堆積物 附著抑制方法，特別涉及排出堆積物附著要因氣體的渦輪分子泵。背景技術通常，對半導體設備用的晶片實施等離子體處理的基板處理裝置 具有收容晶片并實施規(guī)定處理的處理室(以下稱為"腔室")。在該基板 處理裝置中，當?shù)入x子體處理為蝕刻處理時，向腔室內導入作為處理氣體的例如CF類氣體，基于該CF類氣體產生的等離子體應用于蝕刻 處理。在進行該蝕刻處理時，雖然等離子體與晶片的被蝕刻膜反應， 但是依然存在一部分未反應的...
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