技術(shù)編號(hào)：6893255
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件和液晶器件、或其它具有薄膜疊層的元器件的制造領(lǐng)域、高密度裝配領(lǐng)域、特別是在器件類制造時(shí)，不需要減壓環(huán)境，而在接近大氣壓下形成圖案的圖案形成方法及其裝置、用該方法所制造的器件等。背景技術(shù)半導(dǎo)體器件是通過反復(fù)多次進(jìn)行成膜和其膜的圖案形成而制造的。圖33、34是示出現(xiàn)有的圖案形成工序的一例的工序圖。在如圖33(1)所示的半導(dǎo)體襯底1的表面上，例如，形成布線時(shí)，首先如圖33(2)所示，在已形成有圖中未示出的絕緣膜的半導(dǎo)體襯底1的表面上，用等離子...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。