技術(shù)編號：6891302
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明大體上涉及半導(dǎo)體制造，以及更具體地，涉及用于在用 于制造半導(dǎo)體晶片的處理室中限定處理排除(process exclusion )和 處理執(zhí)行(process performance )的區(qū)域的裝置，其中，某一處理(例 如蝕刻)被排除在這些晶片的中央?yún)^(qū)域之外，并且允許在晶片中央 區(qū)i或外部的邊》彖環(huán)境(edge environ )上扭j亍蝕刻處理。背景技術(shù)真空處理室用于從基片蝕刻材料以及在基片上沉積材料。這些 基片是例如半導(dǎo)體晶片。通常，期望在晶片的中...
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