技術(shù)編號(hào):6885641
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。處理裝置、處理方法及等離子源發(fā)明涉及處理被處理物表面的處理裝置及處理方法,特別是有關(guān)將硅等的 半導(dǎo)體基板、使用半導(dǎo)體基板的半導(dǎo)體內(nèi)存和集成電路或者在玻璃基板上形成 的表示裝置作為被處理物而在它們的制造工序中所使用的處理裝置及處理方 法。另外,本發(fā)明對(duì)產(chǎn)生等離子的等離子源、利用了等離子的被處理物的處理 裝置及其處理方法。技術(shù)背景在使用硅片的半導(dǎo)體內(nèi)存和集成電路的制造工序中,大多通過濕法處理,進(jìn)行基板表面的清洗、抗蝕劑(Resist)的去除和覆膜的蝕刻等的表面...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。