技術編號：6885608
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種在半導體晶片等被處理基板上進行例如成膜等處 理的基板處理裝置以及在該基板處理裝置中朝著被處理基板噴出處理 氣體的處理氣體噴出機構。背景技術在各種半導體裝置的制造工序中，在作為被處理體的半導體晶片 (以下有時簡稱"晶片")上形成由各種物質構成的薄膜，與該薄膜所 要求的物性的多樣化等相呼應，薄膜形成中所使用的物質和組合也呈現出多樣化、復雜化。例如，在半導體存儲元件中，為了克服DRAM (Dynamic Random Access Memory)元...
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