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氮化鎵系Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體器件的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:6876024

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本發(fā)明涉及具有歐姆電極的氮化鎵III-V族化合物半導體器件的制造方法。背景技術(shù) 近年來,采用GaN、GaAlN、InGaN、InAlGaN等氮化鎵系III-V族化合物半導體材料的發(fā)光器件備受關(guān)注。這類發(fā)光器件通常具有在襯底上將n型氮化鎵系化合物半導體層與摻p型摻雜劑的氮化鎵系化合物半導體層疊層的結(jié)構(gòu)。已往,摻p型摻雜劑的氮化鎵III-V族化合物半導體層仍是高阻i型,因而,已有的器件就是所謂的MIS結(jié)構(gòu)。最近,將高阻i型層轉(zhuǎn)化為低阻p型層的技術(shù),例如已被特開...
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