技術(shù)編號(hào):6873346
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于半導(dǎo)體裝置的制程,特別是有關(guān)于半導(dǎo)體裝置的柵極形成控制。背景技術(shù) 目前關(guān)于超大規(guī)模集成電路(ultra-scale integratedcircuits)的高密度及高效能的需求,是需要次微米元件、增加的晶體管及電路速度、以及改善的可靠度。這些需求需要具有高精密度及一致性的裝置元件的形成。當(dāng)這些裝置元件仍然處于半導(dǎo)體晶圓的形式時(shí),接著則需要精心的制程監(jiān)控,包括裝置的頻率以及詳細(xì)的檢驗(yàn)。當(dāng)設(shè)計(jì)規(guī)則縮減且制程窗口(例如在制程中誤差的限度)變?yōu)檩^小時(shí)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。