技術(shù)編號：6870705
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光學設(shè)備，特別是關(guān)于一種。背景技術(shù) 將描繪在掩模版上的電路圖案，通過投影曝光裝置成像在涂有光刻膠等感光材料的制造集成電路的硅片表面上，之后通過刻蝕工藝在制造集成電路的硅片上形成圖案的光影刻蝕法，廣泛地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，印刷電路板也用近來的曝光裝置制造。投影曝光裝置是將掩模版上的電路圖案，經(jīng)過投影曝光透鏡等光學系統(tǒng)做投影曝光，將電路圖案以一定放大或縮小的倍率投影于制造集成電路的硅片上，已知用于集成電路的制造，近年來該投影曝光裝置也適用于印刷電路板的制...
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